Difference: Tutorial6thTCADDay4Question (4 vs. 5)

Revision 52021-06-07 - KojiNakamura

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META TOPICPARENT name="Tutorial4thTCADWorkshop"

4日目 (放射線耐性のシミュレーション) -- 演習問題

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問題1(鈴木)

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問題1()

  表面損傷による酸化膜界面の電荷は、電極間分離を悪くする。電極間の抵抗を測定するため、逆バイアスを-100Vかけた状態で三つの電極のうち両端の電極をGNDに、真ん中の電極にテスト電圧を0Vから10V程度までかけて電流をシミュレーションせよ。

また、この電圧電流特性から抵抗を求めて、TID依存性を考察せよ。(バルク損傷は fluence =0 でよい。)

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問題2(熊倉)

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問題2()

  表面損傷が起こると、 n-in-p のセンサーでは、p-stop構造が必須である。p-stopがある場合とない場合で、MIPの応答が隣の電極に及ぼす影響を考察せよ。
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問題3(石井)

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問題3()

  実デバイスの測定では、fluence=1e16neq/cm2 など、高い放射線照射によるバルクダメージが進むとCV測定からの全空乏化電圧の測定が難しくなる。

シミュレーションを用いて全空乏化電圧を推定せよ。

ヒント : IVのシミュレーションで -200V -400V -600V -1000Vの時の深さ方向の電荷密度分布から空乏層厚を推定するとよい。

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問題 4 (北)

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問題 4 ()

  一般的に n-in-pセンサーは p-in-n センサーに比べて型反転がないという理由から、高放射線耐性下の実験で使用可能であるといわれている。
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<--/commentPlugin-->
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META FILEATTACHMENT attachment="TCAD4-4.pdf" attr="" comment="課題4(北)" date="1591836316" name="TCAD4-4.pdf" path="TCAD4-4.pdf" size="662511" user="AtlasjSilicon" version="1"
META FILEATTACHMENT attachment="day4kadai2.pdf" attr="" comment="" date="1591836895" name="day4kadai2.pdf" path="day4kadai2.pdf" size="366530" user="AtlasjSilicon" version="1"
META FILEATTACHMENT attachment="TCAD_day4_kadai3_ishii.pdf" attr="" comment="課題3(石井)" date="1591837087" name="TCAD_day4_kadai3_ishii.pdf" path="TCAD_day4_kadai3_ishii.pdf" size="248455" user="AtlasjSilicon" version="1"
META FILEATTACHMENT attachment="TCAD31532422238.pdf" attr="" comment="" date="1591837520" name="TCAD31532422238.pdf" path="TCAD31532422238.pdf" size="435419" user="AtlasjSilicon" version="1"
 
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