Difference: TCADIrradBulkDamage (2 vs. 3)

Revision 32018-08-29 - KojiNakamura

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META TOPICPARENT	name="Tutorial2ndTCADWorkshop"

TCAD バルク損傷のシミュレーション

Line: 63 to 61

node 1 を走らせる。

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3 pixelと左右3つづつのガードリングがある。電極間はPsprayで分離。

Line: 78 to 77

図のようなプロットができる。

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照射量に応じて案電流の増加と、Break down 電圧の上昇がみられる。

Line: 96 to 94

図のようなプロットができる。

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同じ電圧で静電容量が照射量とともに増えている。これは空乏層の厚みが薄いから。 1e16と1e17は要調査

実際に100Vでどこまで空乏化しているか？

Non-irrad, 1e12 , 1e13, 1e14, 1e15, 1e16, 1e17 neq/cm2の照射量でIRRADIATIONを走らせる。これはSDEにtrapの情報を加えただけ。

Changed:

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node 32-38を走らせた後 node 25-31でプロットを見る。

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node 32-38を走らせた後 node 25-31でプロットを見る。WDEP_ins.tcl

create_field -dataset TDR -name n -function max(<DopingConcentration>/(abs(<DopingConcentration>)+1.0),0)
create_field -dataset TDR -name p -function max((-1.0*<DopingConcentration>)/(abs(<DopingConcentration>)+1.0),0)
create_field -dataset TDR -name DEP -function <n>*<eDensity>/(<DopingConcentration>+10)-<p>*<hDensity>/(<DopingConcentration>-10)-0.05

1e13 と1e14 @ 100Vでのキャリア密度分布

MIP simulation

Changed:

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Pixel2DMIPのSDEを走らせる。　n46-52 はMIPの垂直入射。n212は点電荷。n175は45度入射

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Pixel2DMIPのSDEを走らせる。　n46-52 はMIPの垂直入射。n212は点電荷。n175は45度入射

電極に流れる電流分布

Koji Nakamura - 2018-08-28

Line: 114 to 131

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Added:

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META FILEATTACHMENT	attachment="Pixel2DIrradSimMIP.png" attr="" comment="" date="1535502737" name="Pixel2DIrradSimMIP.png" path="Pixel2DIrradSimMIP.png" size="99478" user="KojiNakamura" version="1"
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